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本发明提供一种半导体设备工艺腔室的清洁装置以及清洁方法，该清洁装置包括：固定盘和套设在所述固定盘上的膨胀件，其中，所述固定盘上开设有通气孔，当所述固定盘放置在所述工艺腔室中的卡盘组件上时，所述通气孔与所述卡盘组件的气道连通；所述膨胀件的表面...
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