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一种等离子体CVD装置的腔内台升降机构制造方法及图纸
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下载一种等离子体CVD装置的腔内台升降机构的技术资料
文档序号:24376211
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本实用新型公开了一种等离子体CVD装置的腔内台升降机构,机架的工作平台上设有等离子腔,等离子腔下端的开口处设有腔体法兰,工作平台下方的机架上竖直设有导轨,升降机构包括设置在导轨上由电机驱动的升降座,升降座的一侧设有水平结构的升降台,升降台上...
该专利属于湖上产业发展集团有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过湖上产业发展集团有限公司授权不得商用。
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