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本发明公开了一种FPC的孔图形电镀方法,其包括以下步骤:基板上压合干膜,将待局部镀铜基板的顶底层双面压合上干膜;局部曝光;局部显影,将得到的基板进行显影成形出顶底层的单元孔局部镀干膜图形,FPC单元产品外的拼板废料区域基铜露出;局部镀铜,将...该专利属于厦门弘信电子科技集团股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过厦门弘信电子科技集团股份有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种FPC的孔图形电镀方法,其包括以下步骤:基板上压合干膜,将待局部镀铜基板的顶底层双面压合上干膜;局部曝光;局部显影,将得到的基板进行显影成形出顶底层的单元孔局部镀干膜图形,FPC单元产品外的拼板废料区域基铜露出;局部镀铜,将...