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本发明公开了一种光刻工艺质量评估方法及反馈控制系统，包括电子束显微图像模块、边界提取模块、功率谱密度模块、拟合模块、特征值分布模块和强度模块，利用电子束显微成像对光刻后的晶圆进行测量，得到电子束显微图像；然后利用边界提取算法提取被测结构的边...
该专利属于南京诚芯集成电路技术研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过南京诚芯集成电路技术研究院有限公司授权不得商用。

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