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本发明提供一种半导体生产设备的清洗方法及半导体工艺方法，半导体生产设备包括反应腔室，反应腔室的内壁沉积有污染物，清洗方法包括：于反应腔室的底部设置挡片晶圆；于反应腔室中通入等离子体，等离子体与污染物进行化学反应生成气体及固体颗粒，固体颗粒沉...
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