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本发明涉及微纳光学及光学防伪技术领域，公开了一种基于防伪底纹与图像复用的防伪超表面的设计方法，包括如下步骤：构建纳米砖阵列，纳米砖阵列包括多个纳米砖结构单元，优化获得功能等效为微纳起偏器、具有不同光谱响应的至少两组纳米砖结构单元的备选尺寸参...
该专利属于武汉大学所有，仅供学习研究参考，未经过武汉大学授权不得商用。

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