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文档序号:24328941
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本实用新型涉及半导体技术领域,提出一种半导体结构,该半导体结构包括:深掺杂阱,与半导体衬底具有不同的掺杂类型,且包裹于半导体衬底内,以使深掺杂阱在堆叠方向上的两相对侧面分别与半导体衬底形成PN结;环形掺杂部,且形成于半导体衬底内;栅极绝缘层...
该专利属于长鑫存储技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过长鑫存储技术有限公司授权不得商用。
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