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本发明属于薄膜生长技术领域，公开了一种热蒸发物理气相沉积系统及其使用方法，系统包括：真空组件、在线监测组件；真空组件包括真空镀膜腔，真空镀膜腔中设置有坩埚；在线监测组件包括质谱仪、纳米压痕仪；质谱仪用于对蒸发的气体成分进行实时监测；纳米压痕...
该专利属于武汉大学所有，仅供学习研究参考，未经过武汉大学授权不得商用。

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