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本发明公开了一种高纯度高模数硅酸钾溶液及其制备方法，包括以下步骤：配置获得质量百分比浓度为1％～15％的氢氧化钾溶液，加热升温到80～100℃；将硅源粉碎成微米级别后通过酸洗去除金属和有机杂质，然后用去离子水清洗至PH为6.0～8.0，获得...
该专利属于西安通鑫半导体辅料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过西安通鑫半导体辅料有限公司授权不得商用。

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