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一种简易高折光处理的TFE保护膜制造技术
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文档序号:24318486
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本实用新型涉及一种简易高折光处理的TFE保护膜,包括基材,所述的基材为透光率>91%、雾度<1.5%和厚度为75‑100μm的光学薄膜,在所述基材一个面涂布有简易AR层,PU胶层涂覆于基材的另一面并覆盖离型膜,其中,所述简易AR层的成分为硅...
该专利属于上海精珅新材料有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海精珅新材料有限公司授权不得商用。
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