一种简易高折光处理的TFE保护膜制造技术

本实用新型专利技术涉及一种简易高折光处理的TFE保护膜，包括基材，所述的基材为透光率＞91%、雾度＜1.5%和厚度为75‑100μm的光学薄膜，在所述基材一个面涂布有简易AR层，PU胶层涂覆于基材的另一面并覆盖离型膜，其中，所述简易AR层的成分为硅氧烷类化合物，厚度为50‑500nm，表面电阻达到10

A kind of TFE protective film with simple high refractive treatment

【技术实现步骤摘要】
一种简易高折光处理的TFE保护膜
本技术涉及保护膜领域，具体是涉及一种简易高折光处理的TFE保护膜。
技术介绍
柔性显示面板是以聚酰亚胺或聚酯薄膜为基材制成的一种具有高度可靠性的可挠性印刷电路板，由于其具有配线密度高、重量轻、厚度薄等优点，应用越来越广泛。有机发光二级管(OrganicLight-EmittingDiode,简称OLED)很薄,可以装在塑料或金属箔片等柔性材料上，制作成OLED柔性显示面板。OLED柔性显示面板采用塑料基板，而非常见的玻璃基板，其借助薄膜封装（ThinFilmEncapsulation,TFE）技术，并在显示面板背面粘贴复合保护膜，粘贴复合保护膜能够使面板变得更易弯曲，不易折断。OLED柔性显示面板具有显示区与PAD区(外围引线区)，柔性显示屏制作过程中，在封装时时需要将贴于外围引线区的复合保护膜剥离去除，然而,去除复合保护膜过程中，因受力或热影响很容易将位于柔性显示面板显示区的TFE层和阻挡层一起剥落，造成柔性显示面板损伤，进而引起水气进入显示面板内部，污染OLED器件，造成器件不良。另外，由于基材本身的透光率受限，保护膜本身很难做到93%以上的透光率,对于需要透过保护膜观察柔性面板本身弊病的情况下，普通TFE保护膜无法满足其需求。
技术实现思路
针对现有技术的不足，本技术所要解决的技术问题是：提供一种简易高折光处理的TFE保护膜，该TFE保护膜可以有效的提高保护膜本身的透光率，以满足透过保护膜对被贴柔性面板弊病的观察。为解决所述技术问题，本技术所提供一种简易高折光处理的TFE保护膜，包括基材，所述的基材为透光率＞91%、雾度＜1.5%和厚度为75-100μm的光学薄膜，在所述基材一个面涂布有简易AR层，PU胶层涂覆于基材的另一面并覆盖离型膜，其中，所述简易AR层的成分为硅氧烷类化合物层，厚度为50-500nm，表面电阻达到108-1011Ω/□；所述PU胶层的表面电阻为108-1011Ω/□，剥离力为0-3g/25mm。所述简易AR层能够提高基材2%-3%的透光率，有优良的附着性和一定的防静电性能。在上述方案基础上，所述光学薄膜为表面平整、洁净和没有点状异物的PET、PC、COP薄膜。在上述方案基础上，所述PU胶层的成分为为聚氨酯聚合物，所述PU胶层的厚度为50—100μm，厚度公差在5μm以内。在上述方案基础上，所述PU胶层为在长期高温高湿下为不会对屏幕产生残胶污染且剥离力不大于5g/25mm的PU胶层。如40℃±2℃；93%±2%高温高湿下剥离力不大于5g/25mm，高温高湿不会对屏幕产生残胶等污染。在上述方案基础上，所述离型膜为厚度25—100um的PET离型膜。在上述方案基础上，所述离型膜为平整、洁净和无点状异物的双面防静电的离型膜，即所述离型膜的平整度及洁净度优良，不能有凹凸不平和点状异物等问题，离型膜的离型面电阻在105-1011Ω/□，其离型膜背面电阻在105-1011Ω/□。本技术的优越性在于：提高了透光率，该简易高折光处理的TFE保护膜达93%以上的透光率,可以透过保护膜观察柔性面板本身弊病的情况。不但得到了更好的光学性能，且适用于更严苛的制程过程。附图说明图1本技术截面示意图；图中标号：1——基材；2——AR层；3——PU胶层；4——离型膜。具体实施方式下面结合附图进一步详述本技术。如图1所示，一种简易高折光处理的TFE保护膜，包括基材1，所述的基材1为透光率＞91%、雾度＜1.5%和厚度为75-100μm的光学薄膜，在所述基材一个面涂布有简易AR层2，PU胶层3涂覆于基材的另一面并覆盖离型膜4，其中，所述简易AR层的成分为硅氧烷类化合物层，厚度为50-500nm，表面电阻达到108-1011Ω/□；所述PU胶层的表面电阻为108-1011Ω/□，剥离力为0-3g/25mm。本实施例通过下述步骤制备：选择基材：透光率＞91%、雾度＜1.5%和厚度为75-100μm的PET光学薄膜,（a）在基材的一面涂布简易AR层，成分为硅氧烷类化合物，厚度为50-500nm，表面电阻达到108-1011Ω/□；（b）在基材的另一面涂布PU胶层，PU胶层的厚度为50—100μm，所述PU胶层的在长期高温高湿下剥离力不大于5g/25mm，高温高湿不会对屏幕产生残胶等污染，所述PU胶层的表面电阻为108-1011Ω/□，剥离力为0-3g/25mm；（c）在PU胶层上复合厚度25—100um的具有离型性能的PET离型膜，所述离型膜为平整、洁净和无点状异物的双面防静电的离型膜，其离型膜离型面电阻在105-1011Ω/□，其离型膜背面电阻在105-1011Ω/□；（d）将生产完成的成品，进行分切、包装、发货等处理。本技术所提供的TFE保护膜作为过程膜可保证贴合的过程中，能够有效的填充线路的高低差，起到充分保护的作用，不会对被贴物本身产生污染和难撕离等影响，同时，保护膜的透光率从92%左右提高到94-95%,由于膜材的高透光特性，可以更好的检测被贴物的表观和弊病等情况。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种简易高折光处理的TFE保护膜，包括基材，其特征在于，所述的基材为透光率＞91%、雾度＜1.5%和厚度为75-100μm的光学薄膜，在所述基材一个面涂布有简易AR层，PU胶层涂覆于基材的另一面并覆盖离型膜，其中，所述简易AR层的成分为硅氧烷类化合物层，厚度为50-500nm，表面电阻达到10

【技术特征摘要】
1.一种简易高折光处理的TFE保护膜，包括基材，其特征在于，所述的基材为透光率＞91%、雾度＜1.5%和厚度为75-100μm的光学薄膜，在所述基材一个面涂布有简易AR层，PU胶层涂覆于基材的另一面并覆盖离型膜，其中，所述简易AR层的成分为硅氧烷类化合物层，厚度为50-500nm，表面电阻达到108-1011Ω/□；所述PU胶层的表面电阻为108-1011Ω/□，剥离力为0-3g/25mm。


2.如权利要求1所述的一种简易高折光处理的TFE保护膜，其特征在于：所述光学薄膜为表面平整、洁净和没有点状异物的PET、PC、COP薄膜。


3.如权利要求1所述的一种简易高折光处理的TFE保护膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙攀，王健，牛建超，
申请(专利权)人：上海精珅新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31