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本实用新型公开了一种用于制备镝/铽镀层的磁控溅射镀膜系统，系统使用的磁控溅射源具有管状结构特点，管状磁控溅射源管壁外侧布置有磁体且内部镶嵌有重稀土靶材，工件架安装在端盖上并可沿管状磁控溅射源轴线转动；在管状溅射源内部形成镀膜空间，由于磁控溅...
该专利属于合肥赉晟科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥赉晟科技有限公司授权不得商用。

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