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本实用新型涉及真空控制结构的技术领域，公开了真空腔室的真空控制结构，包括处于常开状态的真空泵、主干管道以及多个分流管道，真空泵与主干管道连接，多个分流管道分别与主干管道连通，分流管道连通有腔室，分流管道上设置有阀门；由于真空泵处于常开状态，...
该专利属于深圳市深科达智能装备股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市深科达智能装备股份有限公司授权不得商用。

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