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提供一种用于制造掩模的方法以及掩模。所述方法包括：提供包括第一部分和与第一部分相邻的多个第二部分的掩模母基底；在掩模母基底上形成反射板；在反射板上形成光致抗蚀剂层；使用辅助掩模去除光致抗蚀剂层的与多个第二部分叠置的第三部分；去除反射板的与多...
该专利属于三星显示有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过三星显示有限公司授权不得商用。

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