掩模及制造掩模的方法技术

提供一种用于制造掩模的方法以及掩模。所述方法包括：提供包括第一部分和与第一部分相邻的多个第二部分的掩模母基底；在掩模母基底上形成反射板；在反射板上形成光致抗蚀剂层；使用辅助掩模去除光致抗蚀剂层的与多个第二部分叠置的第三部分；去除反射板的与多个第二部分叠置的第四部分；以及使用激光去除掩模母基底的多个第二部分。

Mask and method of making mask

【技术实现步骤摘要】
掩模及制造掩模的方法本申请要求于2018年11月14日提交的第10-2018-0139876号韩国专利申请的优先权，所述韩国专利申请的公开内容通过引用全部包含于此。
本公开在这里涉及一种掩模，更具体地，涉及一种用于沉积发光层的掩模以及一种制造掩模的方法。
技术介绍
在各种类型的显示装置之中，有机发光显示装置由于其宽视角、优异的对比度和快速的响应时间而作为下一代显示装置备受关注。当从阳极和阴极注入的空穴和电子在有机发光层中复合并发光时，有机发光显示装置可以发射可见光。同时，有机发光显示装置的电极、有机发光层和其它层可以通过各种方法和工艺形成。例如，在沉积法中，将具有预定图案的精细金属掩模(FMM)紧密地粘附到基底的表面，并且使用FMM将薄膜的材料沉积在基底上，以形成具有预定图案的薄膜。即，为了通过沉积法形成需要的薄膜图案，使用具有与有机发光显示装置的尺寸相同尺寸的掩模。近年来，随着显示装置的尺寸增大，已经开发并使用了具有精确图案的大的掩模。例如，可以使用激光在掩模上形成精确的图案，并且可以使用激光去除掩模的一部分。然而，掩本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种制造掩模的方法，所述方法包括：/n提供掩模母基底，所述掩模母基底包括第一部分和被所述第一部分围绕的多个第二部分；/n在所述掩模母基底上形成反射板；/n在所述反射板上形成光致抗蚀剂层；/n使用辅助掩模去除所述光致抗蚀剂层的与所述多个第二部分叠置的第三部分；/n去除所述反射板的与所述多个第二部分叠置的第四部分；以及/n使用激光去除所述掩模母基底的所述多个第二部分。/n

【技术特征摘要】
20181114 KR 10-2018-01398761.一种制造掩模的方法，所述方法包括：
提供掩模母基底，所述掩模母基底包括第一部分和被所述第一部分围绕的多个第二部分；
在所述掩模母基底上形成反射板；
在所述反射板上形成光致抗蚀剂层；
使用辅助掩模去除所述光致抗蚀剂层的与所述多个第二部分叠置的第三部分；
去除所述反射板的与所述多个第二部分叠置的第四部分；以及
使用激光去除所述掩模母基底的所述多个第二部分。


2.根据权利要求1所述的方法，其中，
所述辅助掩模包括分别与所述多个第二部分叠置的多个开口，并且
使用所述辅助掩模通过曝光工艺来去除所述光致抗蚀剂层的与所述多个第二部分叠置的所述第三部分。


3.根据权利要求2所述的方法，其中，
在去除所述光致抗蚀剂层的与所述多个第二部分叠置的所述第三部分之后，通过蚀刻工艺来去除所述反射板的与所述多个第二部分叠置的所述第四部分。


4.根据权利要求1所述的方法，其中，
所述反射板反射与所述激光的波长范围内的波长对应的光。


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【专利技术属性】
技术研发人员：柳仁卿，朴商镇，梁东炫，朱成培，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR