掩模及制造掩模的方法技术

提供一种用于制造掩模的方法以及掩模。所述方法包括：提供包括第一部分和与第一部分相邻的多个第二部分的掩模母基底；在掩模母基底上形成反射板；在反射板上形成光致抗蚀剂层；使用辅助掩模去除光致抗蚀剂层的与多个第二部分叠置的第三部分；去除反射板的与多个第二部分叠置的第四部分；以及使用激光去除掩模母基底的多个第二部分。

Mask and method of making mask

【技术实现步骤摘要】
掩模及制造掩模的方法本申请要求于2018年11月14日提交的第10-2018-0139876号韩国专利申请的优先权，所述韩国专利申请的公开内容通过引用全部包含于此。
本公开在这里涉及一种掩模，更具体地，涉及一种用于沉积发光层的掩模以及一种制造掩模的方法。
技术介绍
在各种类型的显示装置之中，有机发光显示装置由于其宽视角、优异的对比度和快速的响应时间而作为下一代显示装置备受关注。当从阳极和阴极注入的空穴和电子在有机发光层中复合并发光时，有机发光显示装置可以发射可见光。同时，有机发光显示装置的电极、有机发光层和其它层可以通过各种方法和工艺形成。例如，在沉积法中，将具有预定图案的精细金属掩模(FMM)紧密地粘附到基底的表面，并且使用FMM将薄膜的材料沉积在基底上，以形成具有预定图案的薄膜。即，为了通过沉积法形成需要的薄膜图案，使用具有与有机发光显示装置的尺寸相同尺寸的掩模。近年来，随着显示装置的尺寸增大，已经开发并使用了具有精确图案的大的掩模。例如，可以使用激光在掩模上形成精确的图案，并且可以使用激光去除掩模的一部分。然而，掩模将不被去除的部分可能被激光照射，导致掩模损坏。
技术实现思路
本公开提供了一种掩模以及一种制造掩模的方法，该方法能够防止在使用激光去除掩模的一部分时对掩模的损坏。专利技术构思的实施例提供了一种制造掩模的方法，所述方法包括：提供包括第一部分和与第一部分相邻的多个第二部分的掩模母基底；在掩模母基底上形成反射板；在反射板上形成光致抗蚀剂层；使用辅助掩模去除光致抗蚀剂层的与多个第二部分叠置的第三部分；去除反射板的与多个第二部分叠置的第四部分；以及使用激光去除掩模母基底的多个第二部分。在实施例中，辅助掩模可以包括与多个第二部分叠置的多个开口，可以使用辅助掩模通过曝光工艺去除光致抗蚀剂层的与多个第二部分叠置的第三部分。在实施例中，在去除光致抗蚀剂层的与多个第二部分叠置的第三部分之后，可以通过蚀刻工艺去除反射板的与多个第二部分叠置的第四部分。在实施例中，反射板可以反射与激光的波长范围内的波长对应的光。在实施例中，反射板可以设置为金属膜。在实施例中，还可以包括：在去除反射板的与多个第二部分叠置的第四部分之后去除光致抗蚀剂层的与第一部分叠置的其它部分。在实施例中，掩模母基底可以由因瓦合金形成。在实施例中，掩模母基底的第一厚度可以大于反射板的第二厚度。在实施例中，制造掩模的方法还可以包括通过检测装置检测被反射板反射的激光。在专利技术构思的实施例中，一种制造掩模的方法包括：提供其上形成有包括多个开口的光致抗蚀剂层的导电基底；通过执行电镀在导电基底的与多个开口叠置的部分上形成反射金属层；去除光致抗蚀剂层；在反射金属层上形成掩模母基底；将导电基底与反射金属层和掩模母基底分离；以及使用激光去除掩模母基底的不与反射金属层叠置的部分。在实施例中，掩模母基底的第一厚度可以大于反射金属层的第二厚度。在实施例中，反射金属层可以反射与激光的波长范围内的波长对应的光。在专利技术构思的实施例中，一种掩模包括：母基底，包括在平面图中彼此分隔开的多个开口；以及反射板，设置在母基底上。在实施例中，反射板可以设置为金属膜。在实施例中，母基底的第一厚度可以大于反射板的第二厚度。附图说明包括附图以提供对专利技术构思的进一步理解，附图被并入本说明书中并且构成本说明书的一部分。附图示出了专利技术构思的示例性实施例，并且与描述一起用来解释专利技术构思的原理。在附图中：图1是根据专利技术构思的实施例的显示装置的透视图；图2是根据专利技术构思的实施例的显示面板的平面图；图3A是图2中示出的像素的等效电路图；图3B是示出根据专利技术构思的实施例的显示面板的一部分的剖视图；图4A至图4E是示出根据专利技术构思的实施例的制造掩模的方法的剖视图；以及图5A至图5F是示出根据专利技术构思的另一实施例的制造掩模的方法的剖视图。具体实施方式在本公开中，当元件(或区域、层、部分等)被称为“在”另一元件“上”、“连接到”或“结合到”另一元件时，指的是所述元件可以直接设置在所述另一元件上/连接到/结合到所述另一元件，或者第三元件可以设置在其间。同样的附图标记表示同样的元件。此外，在附图中，为了有效且方便地描述元件的技术优点，夸大了元件的厚度、比例和尺寸。术语“和/或”包括相关构造可以定义的一个或更多个的全部组合或任何组合。将理解的是，尽管这里可以使用术语“第一”、“第二”等来描述各种元件，但是这些元件不应该受这些术语限制。这些术语仅用于将一个元件与另一元件区分开。例如，在不脱离专利技术构思的示例实施例的范围的情况下，第一元件可以被称为第二元件，相似地，第二元件可以被称为第一元件。除非上下文另外明确指明，否则单数形式的术语可以包括复数形式。此外，诸如“在……下方”、“下”、“在……上方”、“上”等的术语用于描述图中示出的构造的关系。这些术语用作相对概念，并且参考图中指示的方向被描述。即，要理解的是，在不脱离本公开的范围的情况下，这些关系术语可以包含在附图中示出的构造之外的各种其它构造。除非另有定义，否则在这里使用的术语(包括技术术语和科学术语)具有与专利技术构思所属领域的普通技术人员通常理解的含义相同的含义。还要理解的是，在通用词典中定义的术语应被解释为具有与相关领域的上下文中的含义一致的含义，这些术语不以理想化的或过于正式化的含义来解释，除非这些术语被另外明确地定义。应当理解的是，术语“包含”或“具有”旨在说明存在所陈述的特征、整体、步骤、操作、元件、组件或其组合，但是不排除存在或附加一个或更多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、组件或其组合。在下文中，将参照附图描述专利技术构思的示例性实施例。图1是根据专利技术构思的实施例的显示装置的透视图。参照图1，显示装置DD可以通过显示区域DA显示图像。在图1中，显示区域DA被示例性地示出为提供在由第一方向DR1和与第一方向DR1交叉的第二方向DR2限定的平面表面上。显示装置DD的厚度方向由第三方向DR3表示。由第一方向DR1、第二方向DR2和第三方向DR3表示的方向是相对概念，并且可以根据显示装置DD的方位和构造转换为不同方向。在本公开中，“当从平面图中观看时”或“在平面图中”可以指当从第三方向DR3观看时。此外，“厚度方向”可以是第三方向DR3。在图1中，显示装置DD被示例性地示出为电视。然而，显示装置DD可以用于诸如监视器或外部广告板的其它大型电子装置以及用于诸如个人电脑、笔记本电脑、个人数字终端、汽车导航系统、游戏机、智能电话、平板电脑和相机的中小尺寸电子装置。应当理解的是，这些仅仅是示例性实施例，在不脱离本公开的专利技术构思的情况下，显示装置DD可以是其它电子装置，或者可以集成在其它电子装置中。同时，图1中示出的显示装置DD可以是使用下文将描述的根据专利技术构思的掩模MSK制造的显示装置。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种制造掩模的方法，所述方法包括：/n提供掩模母基底，所述掩模母基底包括第一部分和被所述第一部分围绕的多个第二部分；/n在所述掩模母基底上形成反射板；/n在所述反射板上形成光致抗蚀剂层；/n使用辅助掩模去除所述光致抗蚀剂层的与所述多个第二部分叠置的第三部分；/n去除所述反射板的与所述多个第二部分叠置的第四部分；以及/n使用激光去除所述掩模母基底的所述多个第二部分。/n

【技术特征摘要】
20181114 KR 10-2018-01398761.一种制造掩模的方法，所述方法包括：
提供掩模母基底，所述掩模母基底包括第一部分和被所述第一部分围绕的多个第二部分；
在所述掩模母基底上形成反射板；
在所述反射板上形成光致抗蚀剂层；
使用辅助掩模去除所述光致抗蚀剂层的与所述多个第二部分叠置的第三部分；
去除所述反射板的与所述多个第二部分叠置的第四部分；以及
使用激光去除所述掩模母基底的所述多个第二部分。


2.根据权利要求1所述的方法，其中，
所述辅助掩模包括分别与所述多个第二部分叠置的多个开口，并且
使用所述辅助掩模通过曝光工艺来去除所述光致抗蚀剂层的与所述多个第二部分叠置的所述第三部分。


3.根据权利要求2所述的方法，其中，
在去除所述光致抗蚀剂层的与所述多个第二部分叠置的所述第三部分之后，通过蚀刻工艺来去除所述反射板的与所述多个第二部分叠置的所述第四部分。


4.根据权利要求1所述的方法，其中，
所述反射板反射与所述激光的波长范围内的波长对应的光。


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【专利技术属性】
技术研发人员：柳仁卿，朴商镇，梁东炫，朱成培，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR