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本发明涉及石墨烯加工技术领域，一种制作超薄透明石墨烯栅电极的方法，包括以下步骤：a,制取样品；b,样品的定位；c,电极图案化；d,电子束曝光电极；e,变性PMMA的去掉；f,源漏金属电极的沉积；g,器件的成形；h,沉积氧化绝缘层；i,石墨烯...
该专利属于广东墨睿科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过广东墨睿科技有限公司授权不得商用。

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