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本发明关于一种半导体装置以及嵌位电路。所述半导体装置包含:一衬底;一第一半导体层,设置在所述衬底上并且由三族氮化物半导体材料构成;一第二半导体层,设置在所述第一半导体层上并且由三族氮化物半导体材料构成;一功率晶体管结构,包含有一栅级结构、一...该专利属于英诺赛科(珠海)科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过英诺赛科(珠海)科技有限公司授权不得商用。
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本发明关于一种半导体装置以及嵌位电路。所述半导体装置包含:一衬底;一第一半导体层,设置在所述衬底上并且由三族氮化物半导体材料构成;一第二半导体层,设置在所述第一半导体层上并且由三族氮化物半导体材料构成;一功率晶体管结构,包含有一栅级结构、一...