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本发明涉及离子源技术领域，具体而言，涉及一种防离子轰击的离子源装置，包括：壳体、磁铁、导磁件、阳极件、石墨阴极、第一极靴和第二极靴。壳体开设有第一凹槽；第一极靴设置于第一凹槽内，磁铁设置于第一极靴的两端并贴合于第一凹槽的内壁，导磁件设置于第...
该专利属于成都国泰真空设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过成都国泰真空设备有限公司授权不得商用。

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