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本发明涉及新型盐化合物、化学增幅抗蚀剂组合物、及图案形成方法。本发明的课题是提供一种化学增幅抗蚀剂组合物，其在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光刻中，缺陷少，感度、LWR、MEF、CDU等优异；并...
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