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本发明涉及一种容易实现，节省成本和时间的使污染物远离硅片表面微纳米结构的方法，本发明不需要完全除去光刻胶，但是能够使光刻胶污染物远离微纳米结构从而达到不影响微纳米结构性能的目的，即不影响相关器件的性能。本发明能够极大降低微纳米加工过程中产生...
该专利属于浙江精筑环保科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江精筑环保科技有限公司授权不得商用。

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