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公开了用于调节带电粒子的束状态的设备和方法。根据某些实施例，该设备包括在孔上方移位的一个或多个第一多极透镜，该一个或多个第一多极透镜被配置为调节穿过孔的带电粒子束的束电流。该设备还包括在孔下方移位的一个或多个第二多极透镜，该一个或多个第二多...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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