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本发明涉及一种半导体材料生产系统,包括:清洗装置、干燥装置、充氨装置、抽真空装置、多个反应釜和多组输送管道,清洗装置、干燥装置、充氨装置、抽真空装置均可通过输送管道与同一个反应釜连通并传输物料至同一个反应釜,避免人工将反应釜搬运至各设备处,...该专利属于上海玺唐半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海玺唐半导体科技有限公司授权不得商用。
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本发明涉及一种半导体材料生产系统,包括:清洗装置、干燥装置、充氨装置、抽真空装置、多个反应釜和多组输送管道,清洗装置、干燥装置、充氨装置、抽真空装置均可通过输送管道与同一个反应釜连通并传输物料至同一个反应釜,避免人工将反应釜搬运至各设备处,...