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本发明公开了一种纯铜线路的制作方法,其包括纯铜箔下料,贴承载膜,干膜贴合,线路曝光,DES,剥离承载膜,本发明采用承载膜备贴到纯铜箔一面上,模拟成单面基材铜箔,保护纯铜箔,使纯铜可以在DES线蚀刻得到;采用的承载膜粘度满足可剥离地贴合在铜面...该专利属于厦门弘信电子科技集团股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过厦门弘信电子科技集团股份有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种纯铜线路的制作方法,其包括纯铜箔下料,贴承载膜,干膜贴合,线路曝光,DES,剥离承载膜,本发明采用承载膜备贴到纯铜箔一面上,模拟成单面基材铜箔,保护纯铜箔,使纯铜可以在DES线蚀刻得到;采用的承载膜粘度满足可剥离地贴合在铜面...