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本发明公开一种利用紫外光刻胶作支撑层转印石墨烯进行光刻方法，利用紫外光刻胶作为石墨烯转印支撑层，在把石墨烯转印到目标衬底后，利用紫外光刻胶特性，对光刻胶直接进行光刻、显影工艺，接着对石墨烯进行刻蚀，得到石墨烯图案。该方法弥补了之前使用其它材...
该专利属于浙江大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江大学授权不得商用。

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