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本发明涉及AMOLED有机蒸镀工艺的掩模板清洗技术，特别涉及一种低清洗剂现场容量的掩模板清洗的方法和装置。该方法包括：将有机蒸镀工艺的掩模板放入一端开口的清洗槽内；在清洗槽内注入清洗剂；在掩模板进入清洗槽后对清洗槽的开口进行封闭；通过改变清...
该专利属于世源科技工程有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过世源科技工程有限公司授权不得商用。

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