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本实用新型涉及激光熔覆技术领域，公开一种半导体激光熔覆系统。所述半导体激光熔覆系统包括熔覆机构、输送机构、半导体激光器和角度调节装置，输送机构将待熔覆物输送至熔覆机构中，半导体激光器发射激光束，该激光束能够加热待熔覆物，熔覆机构将加热的待熔...
该专利属于华世光电(天津)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华世光电(天津)有限公司授权不得商用。

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