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本实用新型提供了一种利用CVD方法生长二维薄膜的载具，应用于一CVD设备，载具包括底座、底板以及多个生长板。底座具有第一限位结构；底板设于底座上，底板的下表面具有与第一限位结构配合的第二限位结构，底板的上表面具有第三限位结构；底座设置拱形支...
该专利属于北京石墨烯研究院;北京大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京石墨烯研究院;北京大学授权不得商用。

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