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本新型属于化学气相沉积设备领域，公开了一种冷壁化学气相沉积装置，所述冷壁化学气相沉积装置包括：设置有化学沉积反应区的主腔体，所述化学沉积反应区处设置有用于提供化学沉积反应所需温度的第一加热装置；气体源装置，设置在所述主腔体外部，用于向所述化...
该专利属于合肥本源量子计算科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥本源量子计算科技有限责任公司授权不得商用。

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