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本发明涉及一种离子注入系统，其具有配置为形成离子束的离子源以及具有AEF区域的角能量滤波器(AEF)。气体源通过膜与气体的反应而钝化和/或蚀刻留存于AEF上的膜。该气体可为氧化气体或含氟气体。气体源可在形成离子束的同时选择性将气体供应到AE...
该专利属于艾克塞利斯科技公司所有，仅供学习研究参考，未经过艾克塞利斯科技公司授权不得商用。

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