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本发明公开了一种晶硅片微纳浊透复合绒面的制备方法，其采用喷砂设备先在硅片表面形成微米级麻面层，而后在微米级麻面层表面进一步制造纳米级麻面层，而后通过蚀刻工艺最终形成纳米级麻面层完全去浊后光滑透光，微米级麻面层去蚀工序后仍留有低反射的半透明浊...该专利属于欧浦登(顺昌)光学有限公司;欧浦登(福州)光学有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过欧浦登(顺昌)光学有限公司;欧浦登(福州)光学有限公司授权不得商用。