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公开了微流体通道结构及其制作方法、微流体检测装置及其使用方法。微流体通道结构包括支撑部;地基部,其布置在支撑部上并且包括相互隔开的第一地基和第二地基;以及通道限定部,其布置在地基部的远离支撑部的一侧并且包括第一通道层和第二通道层,其中第一通...该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。
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公开了微流体通道结构及其制作方法、微流体检测装置及其使用方法。微流体通道结构包括支撑部;地基部,其布置在支撑部上并且包括相互隔开的第一地基和第二地基;以及通道限定部,其布置在地基部的远离支撑部的一侧并且包括第一通道层和第二通道层,其中第一通...