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本发明提供了一种降低LDS工艺中化镀层粗糙度的方法,包括如下步骤:提供一具有台阶结构的基板;然后利用LDS技术对斜坡表面进行激光活化;再利用LDS技术对平台表面进行激光活化,斜坡上的激光光斑的运行轨迹与平台上的激光光斑的运行轨迹相互垂直;最...该专利属于上海安费诺永亿通讯电子有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海安费诺永亿通讯电子有限公司授权不得商用。
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本发明提供了一种降低LDS工艺中化镀层粗糙度的方法,包括如下步骤:提供一具有台阶结构的基板;然后利用LDS技术对斜坡表面进行激光活化;再利用LDS技术对平台表面进行激光活化,斜坡上的激光光斑的运行轨迹与平台上的激光光斑的运行轨迹相互垂直;最...