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本发明公开了一种基于准分子激光退火的Mura的量化方法,包括如下步骤:S1.在同等光照和同等曝光时间下,获取准分子激光退火后同一基板不同区域的Mura图像;S2.对获得的Mura图像进行图像处理;S3.通过将经历了所述图像处理的所述图像分析...该专利属于信利(仁寿)高端显示科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过信利(仁寿)高端显示科技有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种基于准分子激光退火的Mura的量化方法,包括如下步骤:S1.在同等光照和同等曝光时间下,获取准分子激光退火后同一基板不同区域的Mura图像;S2.对获得的Mura图像进行图像处理;S3.通过将经历了所述图像处理的所述图像分析...