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本发明公开一种烧结钕铁硼磁体表面功能膜层及其制备方法，包括磁体预处理工艺、磁体沉积前处理以及物理气相沉积法制备功能膜层。该功能膜层是以Al...
该专利属于沈阳中北通磁科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过沈阳中北通磁科技股份有限公司授权不得商用。

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