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本实用新型提供了一种用于MOCVD反应室的加热装置及MOCVD反应室。加热装置位于MOCVD反应室的筒状基片载台内且与筒状基片载台连接，加热装置包括：第一加热组件，包括多个与筒状基片载台连接的第一加热结构；第二加热组件，沿筒状基片载台的轴线...
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