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公开一种磁穿隧结(MTJ),其中自由层(FL)与金属氧化物(Mox)层和隧道位障层相接以产生界面垂直磁异向性(PMA)。金属氧化物层具有非化学计量的氧化态以使寄生电阻降至最低,并包含掺质以填充空的晶格位置,藉此阻挡氧扩散通过金属氧化物层,以...该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。
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公开一种磁穿隧结(MTJ),其中自由层(FL)与金属氧化物(Mox)层和隧道位障层相接以产生界面垂直磁异向性(PMA)。金属氧化物层具有非化学计量的氧化态以使寄生电阻降至最低,并包含掺质以填充空的晶格位置,藉此阻挡氧扩散通过金属氧化物层,以...