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一种控制电镀深度减少通孔Stub的方法技术
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文档序号:24042325
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本发明公开的一种控制电镀深度减少通孔Stub的方法,包括以下步骤:A钻孔;B树脂塞孔;C二次钻孔,选择直径为D1的钻头,钻孔深度=D3+D4;D镀铜;E二次树脂塞孔。先钻孔,充满树脂之后,然后在树脂内钻孔,此时钻孔的深度为D3+D4,通过钻...
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