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本发明公开了一种光谱选择性发射红外隐身材料,依次包括基底、交替排列的金属层和氧化物层;所述氧化物层在3~8μm波段的折射率小于2.5;所述金属层在5~8μm波段的消光系数大于4;其制备方法为:(1)对基底进行清洗,干燥;(2)采用电子束蒸发...该专利属于中国人民解放军国防科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过中国人民解放军国防科技大学授权不得商用。
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本发明公开了一种光谱选择性发射红外隐身材料,依次包括基底、交替排列的金属层和氧化物层;所述氧化物层在3~8μm波段的折射率小于2.5;所述金属层在5~8μm波段的消光系数大于4;其制备方法为:(1)对基底进行清洗,干燥;(2)采用电子束蒸发...