一种选择性发射红外隐身材料及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种光谱选择性发射红外隐身材料，依次包括基底、交替排列的金属层和氧化物层；所述氧化物层在3～8μm波段的折射率小于2.5；所述金属层在5～8μm波段的消光系数大于4；其制备方法为：(1)对基底进行清洗，干燥；(2)采用电子束蒸发、磁控溅射和原子沉积法中的任一种方法，将金属材料沉积在基底上形成金属层；(3)采用电子束蒸发、磁控溅射法和化学气相沉积法中的任一种方法，在金属层沉积氧化物层；(4)重复步骤(2)，或者重复步骤(2)和(3)，完成红外隐身材料的制备。本发明专利技术的选择性发射红外隐身材料，实现了红外选择性发射，兼顾了低发射率与辐射散热的要求，对更好的实现红外隐身具有重要的意义。

A selective emission infrared stealth material and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
一种选择性发射红外隐身材料及其制备方法
本专利技术属于新材料领域，尤其涉及一种光谱选择性发射红外隐身材料及其制备方法。
技术介绍
作为尖端的军事技术之一，隐身技术受到了越来越多的关注，对于打赢现代战争具有极其重要的意义。在各种隐身技术中，红外隐身占据着十分重要的地位。红外隐身，其概念是指消除或减小目标与背景间中远红外波段两个大气窗口(3.0μm～5.0μm，8.0μm～14.0μm)辐射特性的差别。目前，降低目标的红外辐射出射度是实现红外隐身最主要的方式。根据Stefan-Boltzmann定律：M＝εσT4，红外辐射出射度与温度T和发射率ε相关。因此降低红外辐射出射度，实现红外隐身，理论上可通过降低目标表面温度或发射率来实现。目前，在目标表面涂覆红外低发射率涂层实现红外隐身是最常见的手段。传统的红外低发射率涂层在整个红外波段都具有低发射率，覆盖了红外探测的3.0μm～5.0μm和8.0μm～14.0μm波段。但是，红外全波段的低发射率会降低热辐射的效率，导致热量集聚、温度上升。结合Stefan-Boltzmann定律，温度的升本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种选择性发射红外隐身材料，其特征在于，所述红外隐身材料为多层结构，依次包括基底、交替排列的金属层和氧化物层；所述氧化物层在3～8μm波段的折射率小于2.5；所述金属层在5～8μm波段的消光系数大于4。/n

【技术特征摘要】
1.一种选择性发射红外隐身材料，其特征在于，所述红外隐身材料为多层结构，依次包括基底、交替排列的金属层和氧化物层；所述氧化物层在3～8μm波段的折射率小于2.5；所述金属层在5～8μm波段的消光系数大于4。


2.如权利要求1所述的红外隐身材料，其特征在于，所述氧化物层的厚度为10～1500nm。


3.如权利要求1所述的红外隐身材料，其特征在于，所述金属层的材料为钼、钨、镍、铂、铬中的任一种。


4.如权利要求1所述的红外隐身材料，其特征在于，所述氧化物层的材料为氧化铪、氧化铝、氧化钽、氧化钛中的任一种。


5.如权利要求1所述的红外隐身材料，其特征在于，所述基底的材料为硅、玻璃、金属、高分子材料中的任一种。


6.如权利要求1～5任一项所述的红外隐身材料，其特征在于，所述红外隐身材料的层数为4-5层。


7.如权利要求6所述的红外隐身材料，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭亮，刘东青，程海峰，
申请(专利权)人：中国人民解放军国防科技大学，
类型：发明
国别省市：湖南;43