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本发明属于光学精密加工制造技术领域，尤其涉及一种水基磁流变抛光液及其配制方法。本发明提供的水基磁流变抛光液包括：磁性颗粒77～88wt％；非磁性抛光粉0.01wt‰～8wt％；分散稳定剂0.2～0.5wt％；润湿剂0.5～1wt％；螯合剂0...
该专利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院长春光学精密机械与物理研究所授权不得商用。

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