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本发明减少在处理室内对处理气体进行等离子体激励时产生的对处理室内壁等的溅射的发生。本发明提供一种基板处理装置，其具备：等离子体容器，其对处理气体进行等离子体激励；线圈，其被设置为卷绕在等离子体容器的外周，且构成为被供给高频电力，线圈形成为从...
该专利属于株式会社国际电气所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社国际电气授权不得商用。

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