温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

提供了用于估计光刻过程的参数的设备和方法，以及用于确定光刻过程的参数的估计的品质低劣强度之间的关系的设备和方法。在用于估计参数的设备中，处理器被配置成基于在被测试衬底的至少第一特征的特征不对称性的测量并且还基于针对表示所述被测试衬底的至少一...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。