温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供一种蚀刻液，用于蚀刻膜厚较厚的铜层和基底钛层的多层膜，该蚀刻液即使在金属离子浓度达到8000ppm以上时也能够使用。该蚀刻液含有(a)过氧化氢、(b)氟离子供给源、(c)唑类、(d)过氧化氢稳定剂、(e)有机酸、(f)胺类和(g)...
该专利属于松下知识产权经营株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过松下知识产权经营株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。