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提供了一种等离子体处理系统。该系统包含室、控制器、及设置于该室中的喷淋头。第一气体歧管连接至该喷淋头以用于响应来自该控制器的控制而从第一气体源提供第一气体。喷淋器‑基座设置于该室中并定位于该喷淋头的对侧。第二气体歧管连接至该喷淋器‑基座以用...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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