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一种制备光学预制件22的方法，包括以下步骤：将包含氧化硅的光学预制件22放置在炉10的腔内；将蚀刻剂气体42通入炉中，并从光学预制件22内限定的开放通道34中通过和/或从光学预制件22周围通过；将中和气体50通入炉腔内，该中和气体50被配置...
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