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本申请公开了一种化学机械抛光研磨剂的制备方法及化学机械抛光方法，其中，化学机械抛光研磨剂的制备方法在获取了待处理研磨剂和预设有机硅烷后，利用预设有机硅烷对分散在有机溶剂中的待处理研磨剂进行表面改性处理，并对待分离液体进行处理，以获得表面改性...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。

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