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一种多工位柔性抛光主轴装置，包括上平台和抛光机构，所述抛光机构包括主轴组件、上下柔性组件和左右柔性组件，所述左右柔性组件设于上平台上，所述上下柔性组件设于左右柔性组件上，所述主轴组件设于上下柔性组件上，所述主轴组件包括伺服电机、传动机构、密...
该专利属于宇晶机器(长沙)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过宇晶机器(长沙)有限公司授权不得商用。

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