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本发明公开了一种多晶硅片清洗系统及其清洗方法，包括多晶硅片清洗调控系统，所述多晶硅片清洗调控系统的输入端与电源模块的输出端电性连接，所述多晶硅片清洗调控系统与网络数据库实现双向连接，多晶硅片自动上料设备的输出端与物料全面扫描检验设备的输入端...
该专利属于武汉百臻半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉百臻半导体科技有限公司授权不得商用。

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