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本实用新型公开了一种双层透明电磁屏蔽膜，包括：透明基底；第一屏蔽层，其堆叠设置在所述透明基底的上表面，或其嵌设于所述透明基底的上表面，其包括有第一网格状凹槽，和由填充于所述第一网格状凹槽内的电屏蔽材料或者磁屏蔽材料形成的第一屏蔽结构；第二屏...该专利属于苏州维业达触控科技有限公司;苏州苏大维格科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州维业达触控科技有限公司;苏州苏大维格科技集团股份有限公司授权不得商用。