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本实用新型公开了有机半导体材料加工技术领域的一种有机半导体材料溶剂退火炉。所述退火炉由溶剂退火炉密封盖和溶剂退火炉主体两部分组成。其中，溶剂退火炉密封盖包括上、下连接的容器密封层和容器固定层，容器固定层底侧设置基底固定凹槽，用于固定样品基底...
该专利属于有研工程技术研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过有研工程技术研究院有限公司授权不得商用。

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